[发明专利]一种对位标记结构、曝光装置和曝光方法

说明书

本发明适用于膜层图案化制造技术领域，提供了一种对位标记结构、曝光装置和曝光方法，该对位标记结构呈镂空形式设置，其镂空位置处允许光线透过，因而，能够降低对光线的反射率，当该对位标记结构与其他结构共同位于图像传感器的捕捉视野内时，其可以与其他结构之间形成色差而被图像传感器准确捕捉；应用该对位标记结构的曝光装置，其能够准确识别到光刻掩模板上的对位标记结构，提高对位准确性；基于该对位标记结构的曝光方法，能够准确识别到基板上的对位标记结构，因而能够保证基板对齐至所需要的位置处，提高对位准确性，保证曝光区域的准确性，进而保证待曝光的膜层的质量。

技术领域

本发明涉及膜层图案化制造技术领域，特别涉及一种对位标记结构、曝光装置和曝光方法。

背景技术

曝光机目前广泛应用在印刷电路板领域、显示器领域等，例如，电路板的导电层的图案化生产、显示器的阵列基板以及彩膜基板制作等。曝光机主要用于将光刻掩模板上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上。

在基于CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)的曝光机中，CCD依靠反射光来检测基板上的对位标记和光刻掩模板上的对位标记是否对齐。因此，CCD需要准确识别出光刻掩模板上的对位标记，此外，对于放置于机台上的待曝光件，CCD需要准确识别出基板上的对位标记。不论是基板上的对位标记还是光刻掩模板上的对位标记，当它们与CCD捕捉范围内的其他区域的颜色接近时，则不能被准确识别。

发明内容

本发明的目的在于提供一种对位标记结构，旨在解决现有的曝光过程中基板上的对位标记和/或光刻掩模板上的对位标记不能被准确识别技术问题。

本发明是这样实现的，一种对位标记结构，呈镂空形式设置。

在一个实施例中，所述对位标记结构的镂空面积比例为10％～85％。

在一个实施例中，所述对位标记结构的镂空面积比例为20％～60％。

在一个实施例中，所述对位标记结构呈封闭环形式。

在一个实施例中，所述对位标记结构包括至少两个嵌套的子环体，所述子环体之间为镂空设置。

在一个实施例中，所述对位标记结构呈由基准点开始在至少两个方向上向外延伸的形式。

在一个实施例中，所述对位标记结构包括多个子线条，多个所述子线条分别在至少两个方向上向外延伸，至少两个所述子线条之间为镂空设置。

本发明的另一目的在于提供一种曝光装置，包括：

机台，具有台面；

光刻掩模板，设于所述机台的上方，所述光刻掩模板上设有至少一个第二对位标记，所述第二对位标记为如上各实施例所述的对位标记结构。

本发明的又一目的在于提供一种曝光方法，包括：

提供曝光装置，所述曝光装置包括机台和设于所述机台的台面上方的光刻掩模板；

提供待曝光件，所述待曝光件包括基板和形成于所述基板上的待曝光膜层；所述基板上设有至少一个第一对位标记，所述第一对位标记为如上各实施例所述的对位标记结构。

在一个实施例中，所述光刻掩模板上设有至少一个第二对位标记，所述第二对位标记为如上各实施例所述的对位标记结构；且，所述第一对位标记与所述第二对位标记的形状不同。

本发明提供的对位标记结构、曝光装置以及曝光方法的有益效果在于：