[发明专利]用于激光干涉光刻系统的相位测量装置及其使用方法有效
| 申请号： | 201911050187.5 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN110837213B | 公开（公告）日： | 2020-12-04 |
| 发明（设计）人： | 朱煜;王磊杰;张鸣;徐继涛;成荣;郝建坤;李鑫;杨开明;范玉娇;高思齐 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B27/28;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 吴金水;张超艳 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光学仪器仪表技术领域，提供了一种用于激光干涉光刻系统的相位测量装置及其使用方法，包括第一波片、第一偏振分光棱镜、第四波片、后向反射镜、第三波片、反射镜、第二波片、偏振片、第二偏振分光棱镜、第三偏振分光棱镜、第一光电探测器、第二光电探测器和基座；所述第一偏振分光棱镜、第二偏振分光棱镜、第三偏振分光棱镜、第一光电探测器和第二光电探测器固定在基座上，第一波片、第二波片、第三波片及第四波片分别设置在第一偏振分光棱镜四周，偏振片与第三偏振分光棱镜出射面，后向反射镜在第四波片外侧，反射镜在第三波片外侧，组成相位测量的光路系统。干涉测量信号经解算得到测量光相位，用于变周期的干涉曝光的条纹控制。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光 干涉 光刻 系统 相位 测量 装置 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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