[发明专利]一种制备平行等宽微结构的方法有效

专利信息
申请号: 201911006209.8 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN110723714B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 孟彦成;李立强 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种制备平行等宽微结构的方法。所述方法包括:提供双层膜,所述双层膜包括层叠的第一薄膜层和第二薄膜层,所述第一薄膜层和第二薄膜层具有不同的机械特性;将所述双层膜通过从刚性基底上剥离的方式连续弯折,并使弯折角在90°以上,从而在所述第一薄膜层或第二薄膜层上产生有序的微结构。所述微结构包括平行等宽的裂纹、印记或凹槽等。所述微结构的取向沿选定方向高度一致,且间距均匀一致。本发明提供了简洁可控的取向高度一致的平行等宽微结构(裂纹、刻痕阵列、印记或凹槽等)的制备方式,该方式简洁,使得平行等宽微结构的高效制备成为可能;本发明制备的裂纹或者凹槽等微结构的间距均匀一致,并且可人为调控间距的大小。
搜索关键词: 一种 制备 平行 微结构 方法
【主权项】:
1.一种制备平行等宽微结构的方法,其特征在于包括:/n提供双层膜,所述双层膜包括层叠的第一薄膜层和第二薄膜层,所述第一薄膜层和第二薄膜层具有不同的机械特性;/n将所述双层膜连续弯折,并使弯折角在90°或者90°以上,从而在所述第一薄膜层或第二薄膜层上产生有序的微结构。/n
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