[发明专利]一种用于回旋加速器高频水冷接口的真空密封装置在审

专利信息
申请号: 201910996318.2 申请日: 2019-10-18
公开(公告)号: CN110719681A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 朱晓锋;张素平;潘高峰;宋国芳 申请(专利权)人: 中国原子能科学研究院
主分类号: H05H7/00 分类号: H05H7/00;H05H13/00;H05K7/20
代理公司: 11508 北京维正专利代理有限公司 代理人: 卓凡
地址: 10241*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提出了一种用于回旋加速器高频水冷的真空密封装置,包括上下两层,上层为水冷密封组件、下层为真空密封组件;上层的水冷密封组件和下层的真空密封组件上还分别布设有各自的多个入水孔和多个出水孔;上层水冷密封组件和下层真空密封组件之间还设有连接上下两层入水孔和出水孔的水冷接头:其特征在于:该水冷密封组件和真空密封组件相配合,实现将上层水冷密封组件的一路进水分配给下层真空密封组件的多路进水、将下层真空密封组件的多路出水合并为上层水冷密封组件的一路出水。本发明不仅减少了一道密封,而且由于改进后的密封面积大,能够彻底解决漏孔的问题,有效降低的维护成本和安装成功。
搜索关键词: 真空密封组件 水冷密封 下层 上层 上下两层 出水孔 入水孔 出水 多路 密封 真空密封装置 回旋加速器 水冷接头 高频水 配给 进水 漏孔 合并 改进 配合 成功 维护
【主权项】:
1.一种用于回旋加速器高频水冷的真空密封装置,包括上下两层,上层为水冷密封组件、下层为真空密封组件;上层的水冷密封组件和下层的真空密封组件上还分别布设有各自的多个入水孔和多个出水孔;上层水冷密封组件和下层真空密封组件之间还设有连接上下两层入水孔和出水孔的水冷接头:其特征在于:该水冷密封组件和真空密封组件相配合,实现将上层水冷密封组件的一路进水分配给下层真空密封组件的多路进水、将下层真空密封组件的多路出水合并为上层水冷密封组件的一路出水。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国原子能科学研究院,未经中国原子能科学研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910996318.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top