[发明专利]一种光学整流罩上加工引信触发的设计方法在审
| 申请号： | 201910978673.7 | 申请日： | 2019-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN110794646A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 惠建平 | 申请（专利权）人： | 河北汉光重工有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F7/20;F42B15/00;F42C1/00 |
| 代理公司： | 11120 北京理工大学专利中心 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 056028*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学整流罩上加工引信触发的设计方法，掩膜板的加工：将光学整流罩上的球面引信图案投影至平面上，获得平面引信图案并打印；确定辅助曝光球罩基体的半径，加工辅助曝光球罩；制作掩模板基体，并进行真空镀膜、涂胶和烘烤；将掩膜板基体和辅助曝光球罩把引信图案夹在两者之间，然后进行曝光、显影、刻蚀及去胶处理，完成掩膜板的加工；利用掩膜板，在光学整流罩上加工引信：对光学整流罩进行真空镀膜，再涂胶、烘烤；利用曝光复制的方式，将掩膜板上的引信图案复制到光学整流罩上；再对光学整流罩进行显影、刻蚀、去胶，实现引信的加工。采用该方法简单、方便、加工成本低、产品合格率高，图案清晰且附着力强，适合大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 引信 光学整流 掩膜板 加工 曝光 球罩 真空镀膜 烘烤 刻蚀 去胶 涂胶 显影 球面 图案 产品合格率 附着力强 图案复制 图案清晰 图案投影 掩模板 触发 打印 复制 制作 生产 | ||
【主权项】：
1.一种光学整流罩上加工引信触发的设计方法，其特征在于，过程如下：/n掩膜板的加工：/n将光学整流罩上的球面引信图案投影至平面上，获得平面引信图案并打印；/n确定辅助曝光球罩基体的半径，加工辅助曝光球罩；/n制作掩模板基体，并进行真空镀膜、涂胶和烘烤；/n将掩膜板基体和辅助曝光球罩把引信图案夹在两者之间，然后进行曝光、显影、刻蚀及去胶处理，完成掩膜板的加工；/n利用掩膜板，在光学整流罩上加工引信：/n对光学整流罩进行真空镀膜，再涂胶、烘烤；/n利用曝光复制的方式，将掩膜板上的引信图案复制到光学整流罩上；/n再对光学整流罩进行显影、刻蚀、去胶，实现引信的加工。/n
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- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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