[发明专利]用于化学机械抛光后的非TMAH碱清洗液及其制备方法在审
| 申请号： | 201910945234.6 | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN110669591A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 王溯;马丽;史筱超;秦长春;何加华;马伟;王亮;杨跃 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/22 | 分类号： | C11D1/22;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/60;H01L21/02 |
| 代理公司： | 31283 上海弼兴律师事务所 | 代理人： | 王卫彬;马续红 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光后的非TMAH碱清洗液及其制备方法。本发明的种清洗液由下述原料制得，所述的原料包括下列质量分数的组分：0.01％‑25％的碱、0.01％‑30％的醇胺、0.001％‑1％的抗氧化物、0.01％‑10％的缓蚀剂、0.01％‑10％的螯合剂、0.01％‑5％的表面活性剂、和水，水补足余量。本发明的清洗液对铜、钴和钨缓蚀性优良、稳定性好、毒性小、生物兼容性强以及环保性较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗液 化学机械抛光 表面活性剂 生物兼容性 抗氧化物 质量分数 环保性 缓蚀剂 缓蚀性 螯合剂 醇胺 制备 | ||
【主权项】：
1.一种清洗液，其特征在于，其由下述原料制得，所述的原料包括下列质量分数的组分：0.01％-25％的碱、0.01％-30％的醇胺、0.001％-1％的抗氧化物、0.01％-10％的缓蚀剂、0.01％-10％的螯合剂、0.01％-5％的表面活性剂、和水，水补足余量，所述的质量分数为各原料的质量占各原料的总质量的质量百分比；/n其中，所述的碱为式I化合物、1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一碳-7-烯、1,5-二氮杂双环[4.3.0]壬-5-烯、1,8-双二甲氨基萘、3,7-二氮杂二环[3.3.1]壬烷、三乙烯二胺和氢氧化六甲季铵中的一种或多种；/n
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