[发明专利]一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法有效
申请号: | 201910937674.7 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN112575349B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 杨晓东;赵志彬;陶绍虎;王富强;张钦菘 | 申请(专利权)人: | 沈阳铝镁设计研究院有限公司 |
主分类号: | C25C3/20 | 分类号: | C25C3/20;C25C3/14 |
代理公司: | 沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 | 代理人: | 王钢 |
地址: | 110001 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及一种氧化铝下料及浓度控制方法,尤其涉及一种铝电解领域铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法。在欠‑过下料期确定氧化铝浓度的下限后,使槽内浓度达到目标浓度后进入基准下料期,基准下料期开始时给定初始下料速率,在基准下料期对电阻极距进行多次提极补偿,在两次极距补偿之间进行下料速率的实时调整。本发明的优点效果:本发明将电解槽的浓度变化控制在所需要的指定小范围内,同时也能有效减少频繁过‑欠量下料对电解质温度和过热度的热冲击,通过间歇式欠‑过下料期对氧化铝浓度和极距进行校正、防止浓度飘移,提出极距补偿手段,实现电解槽极距平衡的精准控制。因为实现了氧化铝浓度和极距的精准控制,有利于提高电流效率,还可以根据全天的基准下料速率变化曲线,评估电解槽的实时效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 电解槽 氧化铝 料及 浓度 控制 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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