[发明专利]一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法有效
申请号: | 201910937674.7 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN112575349B | 公开(公告)日: | 2023-09-15 |
发明(设计)人: | 杨晓东;赵志彬;陶绍虎;王富强;张钦菘 | 申请(专利权)人: | 沈阳铝镁设计研究院有限公司 |
主分类号: | C25C3/20 | 分类号: | C25C3/20;C25C3/14 |
代理公司: | 沈阳圣群专利事务所(普通合伙) 21221 | 代理人: | 王钢 |
地址: | 110001 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电解槽 氧化铝 料及 浓度 控制 方法 | ||
1. 一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于在欠-过下料期确定氧化铝浓度的下限或上限后,使槽内氧化铝浓度达到目标浓度后进入基准下料期,基准下料期开始时给定初始下料速率,在基准下料期对电阻极距进行多次提极补偿,在两次极距补偿之间进行下料速率的实时调整;所述的欠-过下料期和基准下料期为一个循环周期,一个循环周期为3-12小时;所述的下料速率的实时调整为在槽浓度不变时,基准下料速率根据槽电压变化速率dV/dt进行实时调整:当(dV/dt-C)×Δt σ时,调整NB为NB-ΔNB;当(dV/dt-C)×Δt -σ时,调整NB为NB+ΔNB,其中C为由于极距变化引起的电压变化的理论斜率,Δt 为所取的计算时间步长,σ为所允许的电压误差,NB基准下料时间间隔,ΔNB每次时间间隔微调量;所述的下料速率的实时调整为槽电压不变时,基准下料速率根据槽电压变化速率dV/dt进行实时调整:当(dV/dt)×Δt σ时,调整NB为NB-ΔNB;当(dV/dt)×Δt -σ时,调整NB为NB+ΔNB,其中Δt 为所取的计算时间步长,σ为所允许的电压误差,NB基准下料时间间隔,ΔNB每次时间间隔微调量;极距补偿为进行提极补偿,利用提升机构对阳极大母线进行定时提升,计算出一天的阳极消耗
2.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的欠-过下料期包括欠量期和过量期,在欠量期确定氧化铝浓度的下限后,进行浓度的校正,再经过一段时间过量下料,使槽内氧化铝浓度达到目标浓度后再进入基准下料期。
3.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的欠-过下料期包括欠量期和过量期,在欠量期确定氧化铝浓度的下限后,再经过一个过量期确定氧化铝浓度上限,进行浓度的双重校正,再经过一段时间欠量下料,使槽内氧化铝浓度达到目标浓度后再进入基准下料期。
4.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的欠-过下料期包括欠量期和过量期,在过量期确定氧化铝浓度的上限后,进行浓度的校正,再经过一段时间欠量下料,使槽内氧化铝浓度达到目标浓度后再进入基准下料期。
5.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的欠-过下料期包括欠量期和过量期,在过量期确定氧化铝浓度的上限后,再经过一个欠量期确定氧化铝浓度下限,进行浓度的双重校正,再经过一段时间过量下料,使槽内氧化铝浓度达到目标浓度后再进入基准下料期。
6.根据权利要求2、3、4或5所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的使槽内氧化铝浓度达到目标浓度是通过控制电压或欠/过量时间进行的。
7.根据权利要求3或5所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的氧化铝浓度的上限为2.2-3.0%,氧化铝浓度的下限为1.5-1.8%。
8.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的初始下料速率根据上一天的电流效率计算确定或换极前的基准下料间隔确定。
9.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于所述的在基准下料期间进行出铝时,停止氧化铝下料速率的实时调整计算,采用出铝前的基准下料间隔NB进行恒定速率下料,出铝结束后重新启动下料速率的实时调整计算。
10.根据权利要求1所述的一种铝电解槽氧化铝下料及浓度控制方法,其特征在于还包括换极期,在换极期结束后再进入欠-过下料期。
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