[发明专利]一种阴离子扩层碳材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201910921520.9 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110707323B 公开(公告)日: 2022-12-27
发明(设计)人: 赵翰庆;赵丹;李忠;叶建岐 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: H01M4/587 分类号: H01M4/587;H01M4/133;H01M10/054;C01B32/20
代理公司: 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 代理人: 刘宝贤
地址: 030024 山西*** 国省代码: 山西;14
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阴离子扩层碳材料及其制备方法和应用,所述扩层碳材料是以针状焦为碳源,与钠盐扩层剂混合形成溶液并水浴蒸干,所得混合物经过高温煅烧使得阴离子进入石墨层,随后用蒸馏水洗涤样品除去干扰离子,烘干即可得到高性能的钠离子电池负极材料。本发明方法制备阴离子扩层碳材料具有制备工艺简便,绿色环保,且作为钠离子电池负极材料表现出优异的循环性能及大倍率充放电性能,在能量存储领域有着广阔的应用前景。
搜索关键词: 一种 阴离子 扩层碳 材料 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种阴离子扩层碳材料的制备方法,其特征在于,先用适量的醇类有机溶剂将碳材料充分溶解,加入适量扩层剂钠盐,然后将混合物置于带有超声装置的搅拌器中依次搅拌4~6h、超声处理2~4h,再将处理后的混合物转移到水浴锅中旋转蒸干,再将水浴锅中旋转蒸干得到的固体产物置于管式炉中于空气气氛下在300℃煅烧0.5~2h,最后将煅烧后产物去除干扰离子,干燥,得到碳与阴离子的摩尔比为1:100~500、碳层间距为0.37~0.40nm且表面有钠离子吸附位点的阴离子扩层碳材料。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太原理工大学,未经太原理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910921520.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top