[发明专利]一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用在审
| 申请号： | 201910921052.5 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110541145A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 曾浩恩;谭天明 | 申请（专利权）人： | 宁波丽成真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315000 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用，制程可分为以下几个步骤：1）工件脱脂清洁；2）固定与镀件夹具；3）抽真空；4）偏压等离子体清洁；5）离子源等离子体清洁；6）TiAl；7）TiAlN提供高硬度基地；8）TiAlON层，提供润滑性薄膜,使用复合式磁控溅射制作高硬度及低摩擦系数的微钻，使用TiAlON，可以使用较易取得的设备，本发明设计合理，可大规模推广。 | ||
| 搜索关键词： | 高硬度 等离子体清洁 偏压等离子体 低摩擦系数 磁控溅射 镀件夹具 真空镀膜 钻孔刀具 清洁 脱脂 抽真空 复合式 离子源 润滑性 钛薄膜 高铝 微钻 氧氮 制程 制作 薄膜 应用 基地 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用，其特征在于，包括以下步骤：/n工件脱脂清洁；/n固定与镀件夹具；/n抽真空；/n偏压等离子体清洁；/n离子源等离子体清洁；/nTiAl；/nTiAlN提供高硬度基地；/nTiAlON层，提供润滑性薄膜。/n
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