[发明专利]一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用在审

专利信息
申请号: 201910921052.5 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110541145A 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 曾浩恩;谭天明 申请(专利权)人: 宁波丽成真空科技有限公司
主分类号: C23C14/14 分类号: C23C14/14;C23C14/06;C23C14/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315000 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 高硬度 等离子体清洁 偏压等离子体 低摩擦系数 磁控溅射 镀件夹具 真空镀膜 钻孔刀具 清洁 脱脂 抽真空 复合式 离子源 润滑性 钛薄膜 高铝 微钻 氧氮 制程 制作 薄膜 应用 基地
【权利要求书】:

1.一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用,其特征在于,包括以下步骤:

工件脱脂清洁;

固定与镀件夹具;

抽真空;

偏压等离子体清洁;

离子源等离子体清洁;

TiAl;

TiAlN提供高硬度基地;

TiAlON层,提供润滑性薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用,其特征在于,具体包括以下步骤:工件放入镀膜室中抽真空,启动工件转架旋转,待真空抽至3.0帕,启动加热起至适当温度,待真空度大6x10-3帕时,开始制程,加氩气至2帕,依序调整电压电压产生等离子做工件表面清洁,10-15分钟,之后减少氩气支3x10-1帕,打开霍尔离子源,进行10-15分钟的第二阶的等离子体清洁,启动电弧蒸发源,启动镀件是的偏压,通入Ar气至1.5×10-1帕镀Ti层,第二层通N2气镀TiAlN层。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用,其特征在于,所述适当温度为350-400度。

4.根据权利要求2所述的一种真空镀膜制作氧氮高铝钛薄膜用于微钻孔刀具的应用,其特征在于,所述依序调整电压为400-800V。

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