[发明专利]一种正型光刻胶剥离液组合物在审
| 申请号： | 201910920940.5 | 申请日： | 2019-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN110727181A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 刘江华;付元涛;章小琴 | 申请（专利权）人： | 华璞微电子科技(宁波)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315500 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种正型光刻胶剥离液组合物，涉及功能型微电子材料领域，其按重量百分比计，包括非腐蚀性有机胺0.1‑25％、醇醚溶剂40‑99％、高纯水1‑40％。本发明光刻胶剥离液不含有腐蚀性的强碱，清洗后无光刻胶残留，可直接水洗，不会产生金属层腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 强碱 剥离液组合物 光刻胶剥离液 微电子材料 正型光刻胶 重量百分比 醇醚溶剂 非腐蚀性 高纯水 胶残留 金属层 有机胺 无光 清洗 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种正型光刻胶剥离液组合物，其特征在于，按重量百分比计，包括非腐蚀性有机胺0.1-25％、醇醚溶剂40-98.9％、高纯水1-40％。/n
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