[发明专利]一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置在审
| 申请号： | 201910904388.0 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN110579474A | 公开（公告）日： | 2019-12-17 |
| 发明（设计）人： | 戴国亮;史建平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院力学研究所 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N21/01 |
| 代理公司： | 11390 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 席卷 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置，所述装置包括：第一光源、辅助聚光镜、第二光源、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、目镜、CCD；其中，第一光源、辅助聚光镜、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、CCD以水平线为基准，以预设间距依次排开；第二光源在反射镜上方或者下方，目镜在分光棱镜斜上方或者斜下方；视场光阑、相板、分光棱镜在同一模块进行固定，刀口、第三透镜在同一模块进行固定。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 分光棱镜 光源 视场光阑 反射镜 刀口 聚光镜 目镜 测量晶体 晶体形貌 浓度场 斜上方 预设 观测 | ||
【主权项】：
1.一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置，其特征在于，所述装置包括：/n第一光源、辅助聚光镜、第二光源、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、目镜、CCD；/n其中，第一光源、辅助聚光镜、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、CCD以水平线为基准，以预设间距依次排开；/n第二光源在反射镜上方或者下方，目镜在分光棱镜斜上方或者斜下方；/n视场光阑、相板、分光棱镜在同一模块进行固定，刀口、第三透镜在同一模块进行固定。/n
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