[发明专利]面板缺陷拍照方法和面板缺陷拍照装置有效
| 申请号： | 201910904382.3 | 申请日： | 2019-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN110672631B | 公开（公告）日： | 2022-06-10 |
| 发明（设计）人： | 王珂 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/88 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 汪阮磊 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种面板缺陷拍照方法和面板缺陷拍照装置，该面板缺陷拍照方法包括：在当前制程下对待测面板进行检测，得到至少一个当前缺陷的第一缺陷信息；获取前序制程中待测面板已被拍照的历史缺陷的第二缺陷信息；判断至少一个第一缺陷信息与第二缺陷信息是否相同，并获取判断结果；根据判断结果从当前缺陷中确定目标缺陷，并对目标缺陷进行拍照。通过这种方式，将当前制程中检测出的当前缺陷与前序制程中已被拍照的历史缺陷进行对比，以避免对前序制程中已被拍照的历史缺陷进行重复拍照，进而在拍照数量有限时能够拍取更多新出现的缺陷，从而降低当前缺陷的拍照遗漏率，提高产线良率。 | ||
| 搜索关键词： | 面板 缺陷 拍照 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种面板缺陷拍照方法，其特征在于，包括：/n在当前制程下对待测面板进行检测，得到至少一个当前缺陷的第一缺陷信息；/n获取前序制程中所述待测面板已被拍照的历史缺陷的第二缺陷信息；/n判断至少一个所述第一缺陷信息与所述第二缺陷信息是否相同，并获取判断结果；/n根据所述判断结果从所述当前缺陷中确定目标缺陷，并对所述目标缺陷进行拍照。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910904382.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
