[发明专利]一种膜厚测量辅助定位装置与测厚仪的同步方法有效

专利信息
申请号: 201910889712.6 申请日: 2017-05-28
公开(公告)号: CN110722769B 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 鲍军民 申请(专利权)人: 浙江商业职业技术学院
主分类号: B29C48/92 分类号: B29C48/92;B29C48/08;B29C48/00;G01B21/08;B29L7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310053 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种膜厚测量辅助定位装置与膜厚检测仪的同步方法,根据测厚仪扫描周期设定单个矩形刻槽的刻印周期,设定刻槽的宽度、长度和单次横向刻槽群的刻槽数;刻印V形或U形刻槽群,并使得测厚仪单程从一边移动到另一边的时间等于刻槽群周期Tq的整数倍;获取测厚仪的剖面曲线,在检测到刻槽后,根据在一个刻槽群刻印周期内检测到刻槽的数量来判断是否完成同步;并在未完成同步时,根据所检测到两个刻槽的深度大小来提前或推后刻印开始的时刻。本发明通过同步,使得在测厚仪的一个单程扫描时间内,仅需要刻印一个刻槽群就能使所有的所述矩形刻槽均能被测厚仪检测到,从而使得膜厚测量辅助定位所需刻印量大大减小。
搜索关键词: 一种 测量 辅助 定位 装置 测厚仪 同步 方法
【主权项】:
1.一种膜厚测量辅助定位装置与膜厚检测仪的同步方法,其特征在于,包如下步骤:/nF1)根据测厚仪扫描周期设定单个矩形刻槽的刻印周期,设定刻槽的宽度、长度和单次横向刻槽群的刻槽数M,随机选择t0值;/nF2)从t0时刻开始刻印刻槽群,刻槽群中每个矩形刻槽的刻印周期为Tr,且Tr=Tq/k,其中,刻槽群周期Tq取值使得测厚仪单程从一边移动到另一边的时间等于Tq的整数倍;/nF3)获取测厚仪的剖面曲线,判断是否检测到刻槽?如果是则转下一步F4,否则等待;/nF4)判断在一个刻槽群刻印周期Tq内,是否仅检测到两个不同深度的刻槽?如果是则转下一步F5,否则转F6;/nF5)提取被连续检测到的两个刻槽的深度值,判断第一刻槽深度是否大于第二刻槽深度?如果是,则将每周期的刻印开始时刻提前:t0=t0-t1,否则,将每周期的刻印开始时刻推后:t0=t0+t2,其中,t1和t2均小于Tq/2;然后,转步骤s2,重复开始一次刻槽群的刻印;/nF6)同步完成,结束。/n
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