[发明专利]一种新型刻写窄线宽短腔长光纤光栅标准具的方法在审
申请号: | 201910873891.4 | 申请日: | 2019-09-17 |
公开(公告)号: | CN112526667A | 公开(公告)日: | 2021-03-19 |
发明(设计)人: | 王长峰 | 申请(专利权)人: | 上海科乃特激光科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200240 上海市闵行区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种新型刻写窄线宽短腔长光纤光栅标准具的方法,应用包括紫外激光器,反射镜和相位掩膜板的光刻系统,有以下几个步骤:紫外激光器发出的紫外激光经由反射镜反射,打在相位掩模板上;在均匀的相位掩模板前方贴近放置小铁丝或铜丝,把相位掩模板的曝光区域平均分成两部分;对放置在掩模板后面的光纤进行折射率均匀调制,保证其他没有铁丝或铜丝的曝光区域长度一致,从而在光纤上形成两个参数一致的有一定间隔的光纤光栅,这就是光纤光栅标准具。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 刻写 窄线宽短腔长 光纤 光栅 标准 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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