[发明专利]薄膜桥压式氢气氛传感器在审

专利信息
申请号: 201910864385.9 申请日: 2019-09-12
公开(公告)号: CN110426422A 公开(公告)日: 2019-11-08
发明(设计)人: 庄志;张毅;李树勇 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院总体工程研究所
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 杨春
地址: 621908*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了薄膜桥压式氢气传感器,包括依次设置的基底层、绝缘层、阻挡层与敏感电阻层;所述敏感电阻层设置有敏感电阻桥路;所述敏感电阻桥路包括氢敏感元件与温度补偿元件;所述阻挡层设置于温度补偿元件上下两侧层面,用于隔绝氢气和所述温度补偿元件;所述基底层用于绝缘层载体;所述绝缘层用于基底层隔离。本发明薄膜桥压式氢气传感器能够成倍增敏并自带温度补偿功能,能够适用于微间隙测量,减小了环境交叉干扰。
搜索关键词: 敏感电阻 绝缘层 温度补偿元件 薄膜桥 基底层 压式 氢气传感器 阻挡层 桥路 温度补偿功能 交叉干扰 敏感元件 上下两侧 依次设置 氢气 微间隙 传感器 减小 自带 倍增 测量 隔离
【主权项】:
1.薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,为多层薄膜式结构,包括依次设置的基底层、绝缘层、阻挡层与敏感电阻层;所述敏感电阻层设置有敏感电阻桥路;所述敏感电阻桥路包括氢敏感元件与温度补偿元件;所述阻挡层覆盖于温度补偿元件上下两侧层面,用于隔绝氢气与所述温度补偿元件;所述基底层用于作为传感器件的载体;所述绝缘层用于基底层与敏感层隔离,并使传感器与大地绝缘。
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