[发明专利]一种制氧厂专用可示踪无磷缓蚀阻垢剂在审
| 申请号： | 201910853399.0 | 申请日： | 2019-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN110550750A | 公开（公告）日： | 2019-12-10 |
| 发明（设计）人： | 庞宏磊;王国瑞;周继柱;冯春晖;孙松厚;马凯;金鑫;张志平;石伟杰 | 申请（专利权）人： | 神美科技有限公司 |
| 主分类号： | C02F5/10 | 分类号： | C02F5/10 |
| 代理公司： | 61201 西安永生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 062450 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制氧厂专用可示踪无磷缓蚀阻垢剂，所述缓蚀阻垢剂由以下质量百分比原料组成：羧基烷基硫代丁二酸10％～40％，磺酸盐共聚物5％～20％，铜缓蚀剂1％～6％，锌盐2％～8％，荧光示踪因子0.5％～2％，去离子水余量；本发明缓蚀阻垢剂专用于制氧厂冷却水系统，因其具有无磷、环保、高效、无毒、可生物降解，可精准控制加药等优点，具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 缓蚀阻垢剂 制氧 无磷缓蚀阻垢剂 磺酸盐共聚物 可生物降解 冷却水系统 质量百分比 精准控制 去离子水 铜缓蚀剂 荧光示踪 原料组成 羧基烷基 丁二酸 加药 硫代 示踪 无磷 锌盐 无毒 环保 应用 | ||
【主权项】：
1.一种制氧厂专用无磷可示踪缓蚀阻垢剂，其特征在于所述缓蚀阻垢剂由以下质量百分比原料组成：羧基烷基硫代丁二酸10％～40％，磺酸盐共聚物5％～20％，铜缓蚀剂1％～6％，锌盐2％～8％，荧光示踪因子0.5％～2％，余量为去离子水；其中，所述羧基烷基硫代丁二酸为羧甲基硫代丁二酸或羧乙基硫代丁二酸，所述磺酸盐共聚物为丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸共聚物、丙烯酸-2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸-丙烯酸羟丙酯三元共聚物、丙烯酸-丙烯酸酯-磺酸盐共聚物、丙烯酰-磺酸-酰胺基共聚物、羧酸盐-磺酸盐-非离子共聚物中任意一种或多种的混合物；所述的荧光示踪因子为1,3,6,8-芘四磺酸四钠盐。/n
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