[发明专利]基于紫外灰阶光刻制备光波导球形凹面镜的方法有效
| 申请号： | 201910843158.8 | 申请日： | 2019-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN110673261B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 王廷云;邓传鲁;王雪婷;黄怿;张小贝 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122;G02B6/136 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于紫外灰阶光刻制备光波导球形凹面镜的方法，其核心部件主要是由一种特殊设计的长条形及紧接的半圆形组成的掩模图形；长条形区域无灰阶分布，透过的紫外光强各区域相同，半圆形区域具有灰阶分布，透过的紫外光强由圆心沿径向按特定函数分布规律变化；对于长条形区域，芯层胶通过掩模板的紫外光照射，显影后形成光波导芯层；在半圆形区域，对于正性芯层胶来说，厚度由圆心沿径向呈递增分布规律变化，对于负性芯层胶来说，厚度由圆心沿径向呈递减分布规律变化，从而整体形成光波导球形凹面或凸面；对球形凹面或凸面进行镀金属膜或介质高反射膜，形成球形凹面镜。本发明具有操作简单，可控性好，兼容光波导制备工艺流程的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 紫外 光刻 制备 波导 球形 凹面镜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于紫外灰阶光刻制备光波导球形凹面镜的方法，其特征在于：主要通过能生成掩模图形的光刻机，并利用紫外曝光方法制备光波导球形凹面镜，所述掩模图形带有灰阶分布的半圆形掩模部分，所述灰阶分布是指为了使得半圆形掩模的不同区域所透射的光强不同而采用的图像灰度值沿半圆形掩模径向方向呈阶梯变化分布。/n光刻机按照所述掩模图形进行曝光，在灰阶分布的半圆形掩模区域，其光强具有沿径向从圆心至边缘按函数递减的规律变化，在紫外光刻法制备光波导的工艺流程中，使芯层胶半圆形区域经灰阶分布的光强照射，再经显影后，生成球形凹面或凸面；然后仅对获得的球形凹面或凸面镀金属膜或介质高反射膜，最后旋涂包层胶，完成在光波导上制备球形凹面反射镜的工艺流程。/n
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