[发明专利]一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备有效

专利信息
申请号: 201910839103.X 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN110527966B 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 朱晓东;庞杰;李玉楼;宋忠孝;李雁淮;孙军 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56;C23C14/14
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 涂琪顺
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备,包括壳体,该壳体具有一端开口的腔体,且腔体的长度为4.8~5.5m;其中,腔体内的底部在水平方向设置有长管支撑架,该长管支撑架的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接;腔体的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘,每个靶座底盘上均分布有多个靶座,每个靶座上均用于安装靶材,每个靶座底盘旁边均设置有用于更换靶材的腔门,靶座上设置有遮挡板,以遮挡靶材。所述磁控溅射设备在放入工件后,进行抽真空,启动电机并调节转速至指定值,进行镀膜。与传统镀膜设备相比,本发明所提供的磁控溅射设备能均匀镀覆长管类工件的所有表面,操作便捷,解决了现有磁控镀膜设备不适配于长管工件镀膜的问题。
搜索关键词: 一种 用于 镀膜 卧式 磁控溅射 设备
【主权项】:
1.一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备,其特征在于,包括壳体,该壳体具有一端开口的腔体(10),且腔体(10)的长度为4.8~5.5m;其中,/n腔体(10)内的底部在水平方向设置有长管支撑架(30),该长管支撑架(30)的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接;/n腔体(10)的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘(20),每个靶座底盘(20)上均分布有多个靶座(210),每个靶座(210)上均用于安装靶材,每个靶座底盘(20)旁边均设置有用于更换靶材的腔门(110),靶座(210)上设置有遮挡板(220),以遮挡靶材。/n
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