[发明专利]一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备

权利要求书

1.一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，包括壳体，该壳体具有一端开口的腔体(10)，且腔体(10)的长度为4.8～5.5m；其中，

腔体(10)内的底部在水平方向设置有长管支撑架(30)，该长管支撑架(30)的一端穿过壳体的开口端与传动装置连接；传动装置包括自转电机和联轴器，自转电机的输出端通过联轴器与长管支撑架(30)连接；

腔体(10)的顶部沿其轴向设置有若干个靶座底盘(20)，每个靶座底盘(20)上均分布有多个靶座(210)，每个靶座(210)上均用于安装靶材，每个靶座底盘(20)旁边均设置有用于更换靶材的腔门(110)，靶座(210)上设置有遮挡板(220)，以遮挡靶材；

靶座底盘(20)的数量为2～5个，每个靶座底盘(20)含有1～6个靶座(210)，用以镀覆合金及多层薄膜；靶座底盘(20)连接外部电源，以调整镀膜电流；

长管支撑架(30)包括平行设置的两个长轴(320)以及分别套装在两个长轴(320)的若干滚轮(310)；

每个长轴(320)上含2～6个滚轮(310)，且每个长轴(320)含3～7个阶梯，分别用于对滚轮(310)一侧定位，滚轮(310)另一侧用弹性挡圈。

2.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，工作时，长管工件放置在两个长轴(320)之间，一个长轴(320)与传动装置连接，与该长轴(320)相连的滚轮(310)作为主动轮向长管工件施力，使得长管工件发生自转，另一个长轴(320)作为从动轮对长管工件提供支撑作用。

3.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，自转电机能够调节转速以适应不同薄膜的镀覆要求。

4.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，壳体的腔室(10)设置有通气口，用于与分子泵相连接，以抽真空。

5.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，靶材为纯金属靶、合金靶或陶瓷靶。

6.根据权利要求1所述的一种用于长管镀膜的卧式磁控溅射设备，其特征在于，腔体(10)为圆筒状结构。