[发明专利]曝光方法、曝光装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 201910825064.8 | 申请日： | 2019-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN110888303A | 公开（公告）日： | 2020-03-17 |
| 发明（设计）人： | 永井善之;籔伸彦 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种曝光方法、曝光装置以及物品制造方法，该技术能够一边维持生产率一边降低曝光不均。曝光方法是曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包含将掩模的图案投影到基板的投影光学系统，该曝光装置对所述基板进行扫描曝光，该曝光方法具有：取得在扫描曝光中发生的所述投影光学系统的光学特性的变动的信息的工序；以降低由所述变动产生的曝光不均的方式来确定作为所述基板上的每一个点的曝光时间的目标值的目标曝光时间的工序；以使所述基板上的每一个点的曝光时间成为已确定的所述目标曝光时间的方式来调整曝光条件的工序；以及按照调整过的所述曝光条件来进行所述基板的扫描曝光的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 装置 以及 物品 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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