[发明专利]一种永磁元件的表面处理工艺在审
| 申请号： | 201910822908.3 | 申请日： | 2019-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN110587492A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 王宏伟 | 申请（专利权）人： | 徐州给力磁业有限公司 |
| 主分类号： | B24C1/08 | 分类号： | B24C1/08;B08B3/02;B24B29/02;C23G1/02;H01F41/02 |
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| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种永磁元件的表面处理工艺，待处理的永磁元件仅需经过S1.喷砂、S2.冲洗、S3.酸洗、S4.二次冲洗、S5.抛光即可完成表面处理。本发明的一种永磁元件的表面处理工艺，仅靠简单的工序即可完成永磁元件的表面处理，且处理过程中的能耗低，耗材可回收再利用，因此成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 永磁元件 表面处理工艺 冲洗 抛光 可回收 再利用 耗材 喷砂 酸洗 能耗 | ||
【主权项】：
1.一种永磁元件的表面处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：/nS1.喷砂:对待处理的永磁元件进行喷砂，所用喷砂原料为精炼石英石；/nS2.冲洗：将喷砂后的永磁元件进行冲洗，所用冲洗液为2.5％的乙醇与3.5％的甲醇的混合溶液；/nS3.酸洗：将冲洗后的永磁元件放入酸洗池进行酸洗，所用酸洗液为11％的氢氟酸、7.5％的硫酸与7.5％的过氧化氢的混合溶液进行酸洗，酸洗时间为4-5分钟；/nS4.二次冲洗：使用清水对抛光后的永磁元件进行冲洗，所用冲洗液为3％的过氧化氢；/nS5.抛光：用砂纸将冲洗后的永磁元件进行抛光处理，即完成永磁元件的表面处理。/n
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