[发明专利]研磨垫清洗方法及装置在审
| 申请号： | 201910820743.6 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN110524422A | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 同小刚 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B08B3/02;B08B5/02;B08B1/00 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 曹廷廷<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种研磨垫清洗方法及装置，该方法为：在晶圆研磨之前，通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗；在晶圆研磨之后，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗。该装置包括供研磨垫清洗的冲洗装置以及供研磨垫清洗的刷洗装置。本发明能够在对晶圆研磨时，避免对晶圆的刮伤。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨垫 晶圆 研磨 清洗 清洁刷 冲洗装置 高压气体 高压液体 刷洗装置 刮伤 冲洗 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫清洗方法，其特征在于，在晶圆研磨之前，通过高压液体或高压气体对研磨垫进行冲洗，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗；在晶圆研磨之后，通过清洁刷对研磨垫进行刷洗。/n
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