[发明专利]缺陷扫描机台间高匹配度扫描程式的快速建立方法有效
| 申请号： | 201910809109.2 | 申请日： | 2019-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN110515966B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 汪金凤 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F16/24 | 分类号： | G06F16/24;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种缺陷扫描机台间高匹配度扫描程式的快速建立方法，包括，提供一晶圆；采用标准扫描程式对晶圆进行缺陷扫描；采用试扫扫描程式对晶圆进行缺陷扫描；将试扫扫描结果与标准扫描结果进行匹配；根据匹配结果，选取过滤参数对试扫扫描结果进行过滤；根据过滤后的结果，计算待匹配机台与标准机台之间的实际匹配度；判断实际匹配度是否大于或等于预设匹配度，若实际匹配度大于或等于预设匹配度，则根据过滤参数对待匹配机台的扫描程式进行调整；若实际匹配度小于预设匹配度，则重新选取过滤参数对试扫扫描结果进行过滤。本发明可以高效快速的得到高匹配度的扫描程式，从而可以有效释放机台产能，节省时间、降低人力消耗。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 扫描 机台 匹配 程式 快速 建立 方法 | ||
【主权项】：
1.缺陷扫描机台间高匹配度扫描程式的快速建立方法，其特征在于，包括：/n提供一晶圆；/n在标准机台上采用已建立的标准扫描程式对所述晶圆进行缺陷扫描，以获取标准扫描结果；/n在待匹配机台上采用新建立的试扫扫描程式对所述晶圆进行缺陷扫描，以获取试扫扫描结果；/n将所述试扫扫描结果与所述标准扫描结果进行匹配，以获取匹配结果；/n根据所述匹配结果，选取过滤参数对所述试扫扫描结果进行过滤，以滤除与所述标准扫描结果不匹配的缺陷；/n根据过滤后的结果，计算所述待匹配机台与所述标准机台之间的实际匹配度；以及/n判断所述实际匹配度是否大于或等于预设匹配度，若所述实际匹配度大于或等于预设匹配度，则根据所述过滤参数对所述待匹配机台的试扫扫描程式进行调整，从而得到高匹配度的扫描程式；若所述实际匹配度小于预设匹配度，则重新选取过滤参数对所述试扫扫描结果进行过滤，直至所述实际匹配度大于或等于所述预设匹配度。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910809109.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
