[发明专利]光学测量稳定性控制系统在审
| 申请号： | 201910789689.3 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN111121651A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 苏文贤;温峻明;林家庆 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06;G01B11/22 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光学测量稳定性控制系统，其包括机壳、循环流场、光学测量系统以及散热流场。机壳具有密闭空间。循环流场位于密闭空间中且适于产生在密闭空间中流动的气流。光学测量系统位于密闭空间中且位于气流的流动路径上。散热流场与机壳连接且位于流动路径的终端。散热流场通过热传导及强制对流将热排出密闭空间。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测量 稳定性 控制系统 | ||
【主权项】：
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