[发明专利]用于减少缺陷的抛光组合物及其使用方法在审
| 申请号： | 201910789528.4 | 申请日： | 2019-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112175523A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 詹姆斯·麦克多诺;绍尔·阿尔瓦拉多 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;苏虹 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及用于减少缺陷的抛光组合物及其使用方法。化学机械抛光组合物包含磨料、第一去除速率增强剂和水，其中当使用0.2μm的面元尺寸测量时，抛光组合物对于以下关系具有小于800000的值：大颗粒计数/磨料重量百分比。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 减少 缺陷 抛光 组合 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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