[发明专利]制造曲面上微透镜阵列的方法以及包括由所述方法制成的曲面上微透镜阵列的光学装置在审
| 申请号： | 201910776296.9 | 申请日： | 2019-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN110471135A | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 孙洪波;曹小文;陈岐岱 | 申请（专利权）人： | 吉林大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 文洁<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 130012 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种在曲面上制造微透镜阵列的方法以及一种包括由所述方法制成的微透镜阵列的光学装置。所述在曲面上制造微透镜阵列的方法，包括：在光学基材的表面形成一个光滑的凹面，测量凹面的形状，根据凹面的形状设定目标光点阵列，使得目标光点阵列的每个目标光点都定位在凹面上，生成每个目标光点的全息相位，形成目标光点阵列的全息相位集合，将全息相位集合加载至空间光调制器后对飞秒激光进行调制，然后将被调制后的飞秒激光通过多个透镜分别聚焦于所述目标光点阵列的每个目标光点处并对每个目标光点分别进行烧蚀，形成多个烧蚀区，将烧蚀后的光学基材置于氢氟酸溶液中进行腐蚀，直到每个烧蚀区的表面形状变成光滑的凹面为止。 | ||
| 搜索关键词： | 光点阵列 光点 烧蚀 微透镜阵列 全息 飞秒激光 光学基材 凹面 调制 光滑 集合 透镜 空间光调制器 氢氟酸溶液 表面形成 光学装置 形状设定 加载 制造 测量 聚焦 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种制造分布在曲面上的微透镜阵列的方法，包括：/n在光学基材的表面形成一个光滑的凹面，/n测量所述凹面的形状，根据凹面的形状设定目标光点阵列，使得目标光点阵列的每个目标光点都定位在所述凹面上，生成每个目标光点的全息相位，形成所述目标光点阵列的全息相位集合，/n将所述全息相位集合加载至空间光调制器后对飞秒激光进行调制，然后将被调制后的飞秒激光通过多个透镜分别聚焦于所述目标光点阵列的每个目标光点处并对每个目标光点分别进行烧蚀，形成多个烧蚀区，/n将烧蚀后的光学基材置于氢氟酸溶液中进行腐蚀，直到每个所述烧蚀区的表面形状变成光滑的凹面为止。/n
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