[发明专利]一种基于柔性衬底的GaN基激光器与HEMT的器件转移制备方法有效

专利信息
申请号: 201910769904.3 申请日: 2019-08-20
公开(公告)号: CN110600990B 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 田朋飞;闫春辉;钱泽渊;方志来;张国旗 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01S5/026 分类号: H01S5/026;H01S5/343;H01L29/778
代理公司: 北京中知法苑知识产权代理有限公司 11226 代理人: 李明
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种柔性GaN基激光器与HEMT单片集成器件的制备方法,包括:S1:在GaN基激光器衬底层上形成第一GaN基激光器、在第一衬底上形成第一HEMT外延片;S2:干法刻蚀激光器n型电极区域、激光器台面结构、及HEMT台面结构;S3:湿法刻蚀第一HEMT外延片的第一衬底,获得第二HEMT外延片,去除GaN基激光器的GaN基激光器衬底层,获得第二GaN基激光器;S4:将第二GaN基激光器以及第二HEMT外延片分别转移至对应的临时衬底,获得第三GaN基激光器和第三HEMT外延片;S5:将第三GaN基激光器和第三HEMT外延片先后转移至第三衬底;第三衬底为柔性衬底;S6:制备钝化层及电极。本发明避免器件隔离性差、难以实现柔性集成的技术问题,实现了安全性高、机械柔性和轻薄性好的技术效果。
搜索关键词: 一种 基于 柔性 衬底 gan 激光器 hemt 器件 转移 制备 方法
【主权项】:
1.一种柔性GaN基激光器与HEMT单片集成器件的制备方法,其特征在于,包括:/nS1:在GaN基激光器衬底层上形成第一GaN基激光器、在第一衬底上形成第一HEMT外延片;/nS2:通过干法刻蚀的方式顺序刻蚀获得激光器n型电极区域、激光器台面结构、及HEMT台面结构,所述激光器n型电极区域位于第一GaN基激光器外延结构上;/nS3:通过湿法刻蚀的方式去除所述第一HEMT外延片的第一衬底,获得第二HEMT外延片,去除GaN基激光器的GaN基激光器衬底层,获得第二GaN基激光器;/nS4:将所述将所述第二GaN基激光器转移至第一临时衬底,获得第三GaN基激光器;将所述第二HEMT外延片转移至第二临时衬底,获得第三HEMT外延片;/nS5:将第三GaN基激光器和第三HEMT外延片先后转移至第三衬底,通过粘附材料键合第三GaN基激光器与第三衬底、第三HEMT外延片与第三衬底;所述第三衬底为柔性衬底;/nS6:制备钝化层及电极。/n
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