[发明专利]一种测量塞曼效应子谱线强度的方法

摘要

本发明提出了一种测量塞曼效应子谱线强度的方法，属于光谱测量技术领域，其具体方法步骤为打开光源，依次调节聚光镜、干涉滤光片、F‑P标准具、望远镜及可拍照手机拍照镜头的位置，使他们与光源同轴且设置光源位于聚光镜的焦点上；接通直流电磁铁的电源并增加外磁场使每一个干涉级次K的每一个分立圆环分裂为右旋光σ⁺¹、π成分光和左旋光σ^‑1；用可拍照手机拍摄并用《画图板》进行强度提取。利用本发明的方法进行汞灯光谱线强度测量时，其测量成本低，测量结果准确，对数据的后续分析利用能够提供准确的参考价值。

主权项

1.一种测量塞曼效应子谱线强度的方法，其特征在于包括以下步骤：/n1)打开光源(1)，依次调节聚光镜(3)、干涉滤光片(4)、F-P标准具(5)、望远镜(6)及可拍照手机(7)拍照镜头的位置，使聚光镜(3)、干涉滤光片(4)、F-P标准具(5)、望远镜(6)及可拍照手机(7)的拍照镜头与光源(1)同轴且设置光源(1)位于聚光镜(3)的焦点上；调节光路中各部件使外磁场时各干涉级次K的各分立圆环清晰；/n2)接通直流电磁铁(2)的电源，缓慢增大激磁电流，增强磁场使外磁场时各干涉级次K的每一个分立圆环分裂为右旋光σ⁺¹、π成分光和左旋光σ^-1；/n3)用可拍照手机(7)拍摄分裂后的右旋光σ⁺¹、π成分光和左旋光σ^-1的干涉圆环图片；/n4)用《画图板》软件打开步骤3)拍摄的干涉圆环图片，利用《画图板》软件的《颜色选取器》和《编辑颜色》工具测量出各干涉级次K的右旋光σ⁺¹、π成分光和左旋光σ^-1对应的干涉圆环的强度值；/n5)重复步骤4)多次，计算各干涉级次K的右旋光σ⁺¹、π成分光和左旋光σ^-1对应的干涉圆环强度的平均值。/n