[发明专利]一种含硅高熵合金涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201910716257.X | 申请日： | 2019-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN110306186A | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 魏仕勇;彭文屹;张友亮;邓晓华;谌昀;金莹;万珍珍 | 申请（专利权）人： | 南昌大学;江西省科学院应用物理研究所 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10;C22C30/02 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 董大媛 |
| 地址： | 330031 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种含硅高熵合金涂层及其制备方法，属于合金涂层领域。本发明以硅元素为次元素，也是间隙元素，添加到CoCrCuFeMn高熵合金中，可以通过非金属元素的间隙作用，具有很好的抗高温软化性能，使该类高熵合金的晶格畸变增大，起到固溶强化作用，硅元素还能与主元素形成硅化物，弥散在合金组织中，产生弥散强化作用，使该类高熵合金硬度和耐磨性提高；添加自熔性元素Si，可以改善合金在液态时的流动性，从而改善涂层表面宏观形貌；部分Si可以置换原子半径大的Cr，使合金的晶格失真效应加剧，使高熵合金组织中的FCC相峰值发生变化，Si的加入可以使高熵合金中的BCC相向FCC相转变，促进FCC相体积分数增大。 | ||
| 搜索关键词： | 高熵合金 硅元素 制备 合金 弥散强化作用 非金属元素 耐磨性 固溶强化 合金涂层 合金组织 宏观形貌 间隙元素 间隙作用 晶格畸变 软化性能 失真效应 体积分数 涂层表面 硅化物 抗高温 主元素 自熔性 弥散 晶格 相向 置换 | ||
【主权项】：
1.一种含硅高熵合金涂层，其特征在于，包括硅元素和主元素，所述主元素包括Co元素、Cr元素、Cu元素、Fe元素和Mn元素，所述Co元素、Cr元素、Cu元素、Fe元素、Mn元素和硅元素的摩尔比为1:1:1:1:1:0.1～1.0。
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