[发明专利]一种基于非均匀采样策略的傅里叶单像素成像方法有效
申请号: | 201910652291.5 | 申请日: | 2019-07-18 |
公开(公告)号: | CN110427951B | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 曹杰;郝群;周栋;张开宇;张芳华 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G06K9/38 | 分类号: | G06K9/38;G06F17/14 |
代理公司: | 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人: | 邬晓楠 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明公开的一种基于非均匀采样策略的傅里叶单像素成像方法,属于光电成像技术领域。本发明实现方法为:首先是初始化参数,并对采样次数进行分组;然后采样获取P |
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搜索关键词: | 一种 基于 均匀 采样 策略 傅里叶单 像素 成像 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非均匀采样策略的傅里叶单像素成像方法,其特征在于:包括如下步骤,步骤一、初始化采样参数,并对采样次数进行分组,分组数N;步骤二、进行P1次采样,然后根据采样的傅里叶系数重构图像,在每次重构完成后将n变为n+1;步骤三、将重构后的低分辨率图像In‑1进行插值得到插值后的高分辨率图像en;步骤四、对步骤三插值后的高分辨率图像en进行离散傅里叶变换得到一个数组En;步骤五、对变换后的数组En中未采样的数值进行降序排列,取前Pn个值作为待采样的系数;步骤六、根据Pn个值所对应的傅里叶频谱元素位置生成对应的傅里叶投影图案,进行傅里叶单像素采样Pn次;步骤七、根据前P={P1,P2,…,Pn}次采样的数据重构得到图像In。重构完成后将n变为n+1;步骤八、判断n是否大于N,当n不大于N时跳转至步骤三;当n大于N时,此时通过P={P1,P2,…,PN}次采样的数据重构图像,得到具有更多的细节信息的重构图像IN。
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