[发明专利]加速装置及基于半导体激光器的介质激光加速结构在审

专利信息
申请号: 201910631202.9 申请日: 2019-07-12
公开(公告)号: CN111726930A 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 林宏翔;魏晓慧;罗中良 申请(专利权)人: 惠州学院
主分类号: H05H15/00 分类号: H05H15/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 516007 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种加速装置,包括:第一电极和第二电极,第一电极和第二电极正对设置;第一波导层和第二波导层,第一波导层位于第一电极的下方,第二波导层位于第二电极的上方;有源区,有源区位于第一波导层和第二波导层之间;闪耀光栅;反射层,反射层和闪耀光栅都位于第一电极和第二电极之间且分别垂直设置于第一电极和第二电极的两侧;电子束通道,电子束通道的至少一侧形成有光栅,作为加速区;真空区,真空区是由有源区的端面、闪耀光栅和半导体材料所围成的区域。该加速装置通过有源区、闪耀光栅和反射层的巧妙设置可以直接方便的对粒子进行加速,无需要增加其他外部复杂光路的搭建,结构小巧,简单有效。
搜索关键词: 加速 装置 基于 半导体激光器 介质 激光 结构
【主权项】:
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