[发明专利]一种低温液相沉淀法氧化亚铜/还原石墨烯可见光光催化剂的制备方法在审
| 申请号： | 201910617973.2 | 申请日： | 2019-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN110270330A | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 万涛;罗旺;蒋燕;李田;任莉;朱倩;侯光锦 | 申请（专利权）人： | 成都理工大学 |
| 主分类号： | B01J23/72 | 分类号： | B01J23/72;B01J35/10;C02F1/30;C02F1/32;C02F101/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610059 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明采用有机酸辅助调控和低温液相沉淀法制备氧化亚铜/还原石墨烯可见光光催化剂，利用有机酸与铜离子的配位络合以及氧化石墨烯π‑阳离子作用调控氧化亚铜的结构和形貌，利用还原石墨烯高比表面积和高导电性提高光催化剂对染料的吸附性能以及光生电子和空穴的分离，实现染料的吸附富集与光催化降解的协同作用。本发明的氧化亚铜/还原石墨烯光催化剂制备方法简单易行，无需加入高分子或表面活性剂LED灯光照45min氧化亚铜/还原石墨烯光催化剂对10mg/L和50mg/L染料溶液的光催化染料降解率分别达到80～99.5%和42～62.5%，5次循环利用后光催化染料降解率为第一次光催化染料降解率的76.3～91.6%。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化亚铜 石墨烯 还原 光催化剂 染料降解 可见光光催化剂 低温液相 光催化 有机酸 染料 制备 空穴 形貌 表面活性剂 光催化降解 阳离子作用 氧化石墨烯 沉淀法制 辅助调控 高导电性 光生电子 配位络合 染料溶液 吸附性能 沉淀法 次循环 铜离子 次光 富集 吸附 催化 调控 | ||
【主权项】：
1.一种低温液相沉淀法氧化亚铜/还原石墨烯可见光光催化剂的制备方法，其特征在于有如下工艺步骤：a)将铜盐与有机酸溶于去离子水，然后加入质量体积浓度为5mg/mL的氧化石墨烯水分散液，25°C恒温搅拌0.5～1.5h后加入质量浓度为20%的氢氧化钠溶液，25°C恒温搅拌15～45min后加入质量浓度为20%的还原剂水溶液，25～60°C恒温搅拌反应1～4h，反应结束后将产物进行离心分离，用去离子水和无水乙醇洗涤3～5次，离心分离后烘干，研磨，得到氧化亚铜/还原石墨烯可见光光催化剂；铜盐、氧化石墨烯和去离子水的质量比为1～10: 0.01～0.5:50～100，铜盐、有机酸、氢氧化钠和还原剂的摩尔比为1:0.5～2:2～6：0.5～2；b）白光LED灯光照30～45min时，氧化亚铜/还原石墨烯光催化剂对染料溶液的光催化降解基本达到平衡，白光LED灯光照45min时，氧化亚铜/还原石墨烯光催化剂对10mg/L和50mg/L染料溶液的光催化染料降解率分别达到80～99.5%和42～62.5%，5次循环利用后氧化亚铜/还原石墨烯光催化剂的光催化染料降解率为第一次光催化染料降解率的76.3～91.6%。
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