[发明专利]一种具有微纳米形态模具的加工方法

摘要

本发明涉及模具加工技术领域，且公开了一种具有微纳米形态模具的加工方法，步骤一：硅母版制造，步骤二：光刻硅母版，步骤三：表面镀膜以及步骤四：高分子材料转印。该具有微纳米形态模具的加工方法，不仅使得加工微纳米形态的模具的周期缩短，提高了微纳米形态的模具的生产效率，而且提高了微纳米形态的模具的生产质量。

主权项

1.一种具有微纳米形态模具的加工方法，其特征在于：具体步骤如下：步骤一：硅母版制造，A.选取具备所需尺寸要求的基板，通过手动将基板的表面的毛刺进行打磨加工，然后再将基板通过清水进行清洗，清洗之后将基板放入在烘干箱的内部进行烘干处理，将基板从烘干箱的内部取出后放入在空气中自然冷却待用，B.将冷却后的基板放置在硅涂料的喷涂机上，在基板的各个表面上涂覆一层硅涂料，然后将喷涂硅涂料的基板放入在采用风扇的风箱中进行冷却，即制成硅母版；步骤二：光刻硅母版，根据模具的尺寸需求，A.首先在硅母版的表面通过标尺测量出模具的长度、宽度和深度并做出标记，然后将标记后的硅母版放置在光刻机上，由于硅母版的拐角处容易被光刻机的夹具直接损坏，因此此处应当在光刻机的夹具上加上防护垫，将硅母版待加工的面对准与光刻机的激光枪，打开光刻机工作，光刻机在硅母版上刻出模具，B.由于硅母版上的模具被初步光刻出后，其内壁的粗糙度较大，因此需要再将硅母版上在光刻机上进行细刻；步骤三：表面镀膜，将步骤二中光刻硅母版的过程中，会在硅母版的表面残留有大量的碎屑和灰尘，因此需要将步骤二加工得到硅母版模具的表面进行清理，清理之后再使用清水对硅母版模具进行冲洗，冲洗之后放入在烘干箱的内部进行烘干，烘干之后取出将其放入在喷涂机上喷涂一层六甲基二硅氮烷和氧化铝复合薄膜，喷涂后再将其放入在采用风扇的风箱中进行冷却；步骤四：高分子材料转印，向步骤三中得到的硅母版模具中加入高分子材料，高分子材料凝固后即制成模具，此处高分子材料在冷凝时，为了加快高分子材料的凝固速度，可在硅母版模具的一侧设立一台风扇，等待高分子材料完全凝固后即加工成带有微纳米形态模具。