[发明专利]光谱仪的温控方法、温控装置及气体分析仪有效

专利信息
申请号: 201910596321.5 申请日: 2019-07-03
公开(公告)号: CN110427057B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 敖小强;李瑞姣 申请(专利权)人: 北京雪迪龙科技股份有限公司
主分类号: G05D23/20 分类号: G05D23/20;G01N21/01
代理公司: 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 代理人: 冷文燕;王月春
地址: 102206 北京市昌*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种光谱仪的温控方法、温控装置及气体分析仪。光谱仪的温控方法包括:获取环境温度T和环境相对湿度,根据环境温度T和环境相对湿度确定结露点,根据结露点确定温控区间最小值Ta;根据光谱仪的最佳工作温度区间确定温控区间最大值Tb;确定临界值Tc,Tc=(Ta+Tb)/2;若环境温度T高于临界值Tc,对光谱仪进行降温,温控目标值为Ta;若环境温度T低于临界值Tc,对光谱仪进行加温,温控目标值为Tb。本发明采用分段式控温,使得光谱仪可满足宽范围环境温度的要求。
搜索关键词: 光谱仪 温控 方法 装置 气体 分析
【主权项】:
1.一种光谱仪的温控方法,其特征在于,包括:获取环境温度T和环境相对湿度,根据所述环境温度T和环境相对湿度确定结露点,根据所述结露点确定温控区间最小值Ta;B、根据光谱仪的最佳工作温度区间确定温控区间最大值Tb;C、确定临界值Tc,Tc=(Ta+Tb)/2;D、若所述环境温度T高于所述临界值Tc,对所述光谱仪进行降温,温控目标值为所述Ta;若所述环境温度T低于所述临界值Tc,对所述光谱仪进行加温,温控目标值为所述Tb。
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