[发明专利]一种风洞洞体高精度无棱镜放样工艺有效
申请号: | 201910591958.5 | 申请日: | 2019-07-02 |
公开(公告)号: | CN110307957B | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 刘志强;梁华友;林峰;马新春;高永德;易亮 | 申请(专利权)人: | 中国建筑第八工程局有限公司 |
主分类号: | G01M9/04 | 分类号: | G01M9/04;G01C15/00 |
代理公司: | 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) 51239 | 代理人: | 陈春华 |
地址: | 200120 上海市浦东新区中国*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种风洞洞体高精度无棱镜放样工艺,解决现有技术采用传统全站仪测量模式无法满足放样精度要求的问题。本发明采用BIM模型修正法、或者角度与距离双修正法对风洞洞体进行高精度无棱镜放样。本发明构思奇妙、设计科学合理,使用方便,可满足风洞洞体高精度无棱镜放样要求,克服传统全站仪测量模式无法满足放样精度要求的问题,同时还能克服传统全站仪棱镜放样不能在垂直面工作的缺陷,可在多种复杂截面中应用,不仅可在风洞建筑中广泛应用,在其他结构建筑中均有推广使用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 风洞 高精度 棱镜 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种风洞洞体高精度无棱镜放样工艺,其特征在于,采用BIM模型修正法、或者角度与距离双修正法对风洞洞体进行高精度无棱镜放样。
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