[发明专利]一种整体叶轮的旋转化学机械抛光方法

摘要

本发明公开了一种整体叶轮的旋转化学机械抛光方法，该方法通过应用不同组分的化学试剂与磨料组成的混合抛光液，分别对整体叶轮进行粗抛、半精抛及精抛加工。整个抛光过程中只需整体叶轮绕轴线进行旋转运动，即可保证混合抛光液中的化学试剂、磨粒与叶片表面发生化学反应及刮擦，从而实现将整体叶轮表面凹凸不平的部位去除。本发明提供的一种整体叶轮的旋转化学机械抛光方法代替了人工抛光或其他高端装备加工的方式，实现了其自动抛光，且抛光精度好，效率高，成本低。

主权项

1.一种整体叶轮的旋转化学机械抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：1)配制第一混合抛光液第一混合抛光液包括酸性溶液和磨粒，其中酸性溶液为40wt％的氢氟酸溶液、硼酸晶体、苹果酸晶体中的一种或两种以上混合，其中，氢氟酸溶液在抛光液中浓度为20～50ml/L，硼酸晶体在抛光液中浓度为28～50g/L，苹果酸晶体在抛光液中浓度为31～60g/L；磨粒为碳化硅和/或碳化硼，粒径为1000～2000μm，其在抛光液中的浓度为3.0～4.5g/ml；2)粗抛整体叶轮完全浸没在第一混合抛光液中，并绕中心轴旋转，旋转速度为15～25rpm，粗抛时间为10～20min；3)配制第二混合抛光液第二混合抛光液是在第一混合抛光液的基础上，继续添加氧化剂、表面活性剂和磨粒；其中，氧化剂为65wt％硝酸溶液和/或30wt％双氧水溶液，其在抛光液中的浓度为70～130ml/L；表面活性剂为10wt％聚氧乙烯醚溶液和/或月桂酰基谷氨酸晶体，其在抛光液中的浓度为1.2～2.2g/L；磨粒为碳化硅和/或碳化硼，粒径为500～1000μm，其在抛光液中浓度为1.5～3.0g/ml；4)半精抛整体叶轮完全浸没在第二混合抛光液中，并绕中心轴旋转，旋转速度为30～50rpm，半精抛时间为20～35min；5)配制第三混合抛光液第三混合液是在第二混合抛光液的基础上，继续添加溶解液和磨粒，其中溶解液为36wt％盐酸溶液和/或85wt％磷酸溶液，其在抛光液中的浓度为30～55ml/L；磨粒为碳化硅，粒径为200～100μm，其在抛光液中浓度为1.5～3.0g/ml；6)精抛整体叶轮完全浸没在第三混合抛光液中，并绕中心轴旋转，旋转速度为70～100rpm，精抛时间为30～50min。