[发明专利]一种倒金字塔型硅通孔垂直互联结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910564487.9 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110379766B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 曾鸿江 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L23/48
代理公司: 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 代理人: 王林
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种倒金字塔型垂直互联结构及制备方法,包括基板和倒金字塔型通孔,所述基板采用单晶硅晶圆,所述倒金字塔型通孔贯穿于所述基板的上下表面;所述基板上下表面还设置有金属布线,所述基板上表面的金属布线通过所述倒金字塔通孔的侧壁与所述基板下表面的金属布线实现电连通;本发明倒金字塔型硅通孔垂直互联结构易于实现、工艺成本低、适用于大厚度硅基板,且能应用于直流电学信号以及低频段射频信号在硅基板内的垂直过渡传输。
搜索关键词: 一种 金字塔 型硅通孔 垂直 联结 制备 方法
【主权项】:
1.一种倒金字塔型垂直互联结构,其特征在于,包括基板和倒金字塔型通孔,所述基板采用单晶硅晶圆,所述倒金字塔型通孔贯穿于所述基板的上下表面;所述基板上下表面还设置有金属布线,所述基板上表面的金属布线通过所述倒金字塔通孔的侧壁与所述基板下表面的金属布线实现电连通。
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