[发明专利]一种光电集成可拉伸柔性神经电极及制备方法有效

专利信息
申请号: 201910560592.5 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110367977B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 刘景全;吉博文;郭哲俊;王隆春 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: A61B5/0478 分类号: A61B5/0478
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 徐红银;赵楠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种光电集成可拉伸柔性神经电极及制备方法,柔性神经电极包括第一层弹性基底、光刺激电极、第二层弹性基底及记录电极;其中,光刺激电极和记录电极均采用蛇形弯曲布线结构;光刺激电极的下表面设置第一二氧化硅层,第一二氧化硅层与第一层弹性基底发生缩合反应产生的强化学键使所述光刺激电极粘合在第一层弹性基底表面;光刺激电极的上表面上设置第二层弹性基底,记录电极的下表面设置第二二氧化硅层,第二二氧化硅层与第二层弹性基底发生缩合反应产生的强化学键使记录电极粘合在第二层弹性基底表面,使记录电极与光刺激电极集成一体结构。本发明的柔性神经电极可以长期植入,具有高度柔性,能够承受脑组织膨胀收缩等变形影响。
搜索关键词: 一种 光电 集成 拉伸 柔性 神经 电极 制备 方法
【主权项】:
1.一种光电集成可拉伸柔性神经电极,其特征在于,所述柔性神经电极包括第一层弹性基底、光刺激电极、第二层弹性基底及记录电极;其中,所述光刺激电极和所述记录电极均采用蛇形弯曲布线结构;所述光刺激电极的下表面设置第一二氧化硅层,所述第一二氧化硅层与所述第一弹性基底发生缩合反应产生的强化学键使所述光刺激电极粘合在所述第一弹性基底表面;所述光刺激电极的上表面上设置所述第二层弹性基底,所述记录电极的下表面设置第二二氧化硅层,所述第二二氧化硅层与所述第二弹性基底发生缩合反应产生的强化学键使所述记录电极粘合在所述第二弹性基底表面,使所述记录电极与所述光刺激电极集成一体结构。
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