[发明专利]一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法在审
| 申请号： | 201910529974.1 | 申请日： | 2019-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN110262184A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 解为梅;刘雪强;于世瑞 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，至少包括：提供边缘图形；在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。孔状图形边缘处的工艺窗口较小，本发明用PW model拟合对比不同SRAF尺寸和位置，得出合理的SRAF加法，能够有效提高边缘孔图形的对比度，对后期OPC出版图形具有指导意义，从而提高孔层的工艺制作质量。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘图形 辅助图形 工艺窗口 工艺制作 孔状图形 竖直摆放 水平摆放 边缘处 边缘孔 斜上方 拟合 加法 出版 | ||
【主权项】：
1.一种提高孔层边缘图形工艺窗口的SRAF方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：步骤一、提供边缘图形；步骤二、在所述边缘图形的上方、下方加入水平摆放的辅助图形；同时在该边缘图形的外侧加入竖直摆放的辅助图形；步骤三、在所述边缘图形外侧的斜上方、斜下方分别加入辅助图形。
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