[发明专利]用于形成稳定金属熔体液柱的喷嘴装置有效
申请号: | 201910513417.0 | 申请日: | 2019-06-14 |
公开(公告)号: | CN110153428B | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 张佼;孙宝德;东青 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | B22F3/115 | 分类号: | B22F3/115;B33Y30/00 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人: | 王毓理;王锡麟 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种用于形成稳定金属熔体液柱的喷嘴装置,包括:上、下腔体以及设置于其间的密封层,其中:上腔体内设有熔体,下腔体内设有冷凝机构,上腔体和下腔体之间设有喷嘴,熔体藉由上、下腔体的压力差通过喷嘴以连续的微熔体流的形式凝固于冷凝机构上。本发明能够将大体积高温熔体(T300℃)分散为连续的微熔体流,即稳定金属熔体液柱并实现金属快速成型。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 稳定 金属 体液 喷嘴 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于形成稳定金属熔体液柱的喷嘴装置,其特征在于,包括:上、下腔体以及设置于其间的密封层,其中:上腔体内设有熔体,下腔体内设有冷凝机构,上腔体和下腔体之间设有喷嘴,熔体籍由上、下腔体的压力差通过喷嘴以连续的微熔体流的形式凝固于冷凝机构上;所述的压力差是指:上腔体压力与熔体液压之和,其大于喷嘴的通道中熔体的表面张力与下腔体压力之和时,熔体通过喷嘴形成稳定的金属液柱进入下腔体;所述的连续的微熔体流,通过控制所述压力差或控制喷嘴中微流道的形状得以实现。
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