[发明专利]一种用于玻璃基片抛光的真空吸附与吹气下料装置

摘要

本发明公开了一种用于玻璃基片抛光的真空吸附与吹气下料装置，包括真空吸附盘和真空吸附气路，真空吸附盘上设置有多个吸附气孔，真空吸附气路的一端与一气源连接，另一端与吸附气孔连接，还包括预吹气下料气路和主吹气下料气路，预吹气下料气路包括调压阀和预吹气控制阀，主吹气下料气路包括主吹气控制阀，调压阀的一端与气源连接，另一端与预吹气控制阀的一端连接，主吹气控制阀的一端与气源连接，预吹气控制阀和主吹气控制阀的另一端均与吸附气孔连接。本发明通过设置预吹气下料气路和主吹气下料气路，从而实现了玻璃基片的分步脱离，进而防止一开始较大吹气压力损坏玻璃基片，进而节约了取片的时间，提高了生产效率。

主权项

1.一种用于玻璃基片抛光的真空吸附与吹气下料装置，包括真空吸附盘(1)和真空吸附气路(42)，所述真空吸附盘(1)上设置有多个吸附气孔(2)，所述真空吸附气路(42)的端部与所述吸附气孔(2)连接，其特征在于，还包括吹气下料气路和用于调节所述吹气下料气路气压大小的气压调节装置，所述吹气下料气路的一端与一气源(3)连接，另一端与所述气压调节装置的一端连接，所述气压调节装置的另一端与所述吸附气孔(2)连接。