[发明专利]一种太阳吸收率和红外发射率可调控的热控薄膜结构及其确定方法在审

专利信息
申请号: 201910461837.9 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110438460A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 王志民;周晖;王艺;何延春;王虎;赵慨;吴春华;杨淼;郑军 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/10;C23C14/08
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 张洁;周蜜
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种太阳吸收率和红外发射率可调控的热控薄膜结构及其确定方法,属于热控薄膜技术领域。由沉积在基底上的金属层、两层以上的Al2O3层和两层以上的SiO2层组成,其中,Al2O3层和SiO2层的层数相同且按照Al2O3层在下SiO2层在上的顺序依次交替沉积;金属层沉积在基底上,第一层Al2O3层沉积在金属层上,每一次Al2O3层和每一次SiO2层的厚度均在50nm以上。通过叠层设计,在减小薄膜总体厚度的同时实现了热控参数在较大范围内的调控,满足航天器热控薄膜的通用要求,并具备良好的空间环境稳定性要求。
搜索关键词: 热控薄膜 红外发射率 太阳吸收率 金属层 可调控 基底 两层 沉积 航天器热控 金属层沉积 稳定性要求 薄膜总体 叠层设计 交替沉积 空间环境 通用要求 第一层 减小 薄膜 调控
【主权项】:
1.一种太阳吸收率和红外发射率可调控的热控薄膜结构,其特征在于:由沉积在基底上的金属层、两层以上的Al2O3层和两层以上的SiO2层组成,其中,Al2O3层和SiO2层的层数相同且按照Al2O3层在下SiO2层在上的顺序依次交替沉积;金属层沉积在基底上,第一层Al2O3层沉积在金属层上,每一次Al2O3层和每一次SiO2层的厚度均在50nm以上。
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