[发明专利]一种激光光刻三维微纳器件超临界流体显影装置及方法有效
| 申请号： | 201910415063.6 | 申请日： | 2019-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN110308624B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 甘棕松;骆志军;刘亚男 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/42;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人： | 黄君军 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光光刻三维微纳器件超临界流体显影装置及方法，该装置包括腔体、若干激光通孔、若干激光挡板、第一流体通孔、第二流体通孔、第一流体阀门、第二流体阀门和若干光发射结构，其中，所述第一流体通孔和所述第二流体通孔均贯通设置于所述腔体中，并用于向所述腔体中导入或导出超临界流体；所述光反射结构均设置于所述腔体的内壁上，用于引导入射激光进行方向变化。本发明通过引入超临界流体，可彻底去除光刻胶并避免了残留；同时，在超临界流体协同作用下，通过激光光刻三维微纳器件超临界流体显影装置可对微纳器件进行二维或三维的复杂结构设计。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 光刻 三维 器件 临界 流体 显影 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种激光光刻三维微纳器件超临界流体显影装置，其特征在于，包括腔体、若干激光通孔、若干激光挡板、第一流体通孔、第二流体通孔、第一流体阀门、第二流体阀门和若干光发射结构，其中，所述激光通孔均贯通设置于所述腔体中，且每一个所述激光通孔均有一个所述激光挡板与之对应；所述第一流体通孔贯通设置于所述腔体中，并通过第一流体阀门控制超临界流体导入所述腔体内；第二流体通孔贯通设置于所述腔体中，并通过第二流体阀门控制超临界流体从所述腔体内导出；所述光反射结构均设置于所述腔体的内壁上，用于引导入射激光进行方向变化。
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