[发明专利]一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用有效

专利信息
申请号: 201910398917.4 申请日: 2019-05-14
公开(公告)号: CN110183663B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 张诚;郑晓周;王平 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C08G77/26 分类号: C08G77/26;C08G77/06;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;李世玉
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用,所述聚合物按如下方法制备:取硅胶,分散在无水乙醇中,然后加入交联剂,功能单体和苯基三甲氧基硅烷,室温振荡30min后,加入芍药苷乙醇溶液,二次蒸馏水,浓HCl,室温下反应4h,过滤,滤饼先用无水乙醇洗涤,干燥,然后用体积比9:1的甲醇-乙酸洗涤至洗涤液在230nm处无紫外吸收,再用甲醇洗涤除去残留的乙酸,最后干燥至恒重,即得到芍药苷分子印迹聚合物;本发明采用溶胶-凝胶法制备具有双功能单体的芍药苷分子印迹聚合物,能很好地从芍药花提取液中富集芍药苷,富集率最高可达90%,并且能够去除芍药花提取液中的其他杂质。
搜索关键词: 一种 芍药 分子 印迹 聚合物 及其 制备 应用
【主权项】:
1.一种芍药苷分子印迹聚合物,其特征在于所述聚合物按如下方法制备:取硅胶,分散在无水乙醇中,然后加入交联剂,功能单体和苯基三甲氧基硅烷,室温振荡30min后,加入芍药苷乙醇溶液,二次蒸馏水,浓HCl,室温下反应4h,过滤,滤饼先用无水乙醇洗涤,干燥,然后用体积比9:1的甲醇-乙酸洗涤至洗涤液在230nm处无紫外吸收,再用甲醇洗涤除去残留的乙酸,最后干燥至恒重,即得到芍药苷分子印迹聚合物;所述交联剂为正硅酸乙酯,所述功能单体为3‑氨丙基三乙氧基硅烷。
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