[发明专利]一种超精密元件亚表面微纳缺陷测量系统及测量方法有效
| 申请号： | 201910393584.6 | 申请日： | 2019-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN110133108B | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 陈远流;谭鹏;赵冉;居冰峰 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N29/06 | 分类号： | G01N29/06;G01N29/24;G01N29/265;G01N29/46;G01N29/50;G01N29/44 |
| 代理公司： | 杭州宇信知识产权代理事务所(普通合伙) 33231 | 代理人： | 刘艳艳 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的超精密元件亚表面微纳缺陷测量系统，包括XY轴位移调节平台、Z轴位移调节平台、角度调节平台、扫描探针、激励源、锁相放大器及上位机；角度调节平台设于Z轴位移调节平台上，XY轴位移调节平台的上方和角度调节平台的下方分别固定压电晶片一和压电晶片二，样品固定于压电晶片一上，扫描探针固定于压电晶片二上；激励源的两个输出端分别与压电晶片一和压电晶片二连接，扫描探针与样品携带的弹性波和倏逝波相互作用后的信号连接于锁相放大器的输入端、扫描探针的振动频率与样品的振动频率相互作用后的参考频率连接于锁相放大器的参考端，锁相放大器的输出端连接至上位机。实现了对超精密元件亚表面维纳尺寸缺陷三维形态特征的高精度测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 精密 元件 表面 缺陷 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种超精密元件亚表面微纳缺陷测量系统，其特征在于，包括位移调节平台、角度调节平台（3）、扫描探针（4）、激励源（5）、锁相放大器（6）及上位机（7）；所述位移调节平台包括用于对样品（8）进行平面扫描的XY轴位移调节平台（1）和用于对扫描探针（4）进行高度调节的Z轴位移调节平台（2），角度调节平台（3）设置于Z轴位移调节平台（2）上，XY轴位移调节平台（1）的上方和角度调节平台（3）的下方分别固定有压电晶片一（9）和压电晶片二（10），样品（8）固定于压电晶片一（9）上，扫描探针（4）的上端固定于压电晶片二（10）上；激励源（5）的两个输出端分别与压电晶片一（9）和压电晶片二（10）连接，扫描探针（4）与样品（8）携带的弹性波和倏逝波相互作用后的信号连接于锁相放大器（6）的输入端、扫描探针（4）的振动频率与样品（8）的振动频率相互作用后的参考频率连接于锁相放大器（6）的参考端，锁相放大器（6）的输出端连接至上位机（7）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910393584.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
