[发明专利]一种高强度电子光箔及其制造工艺有效
| 申请号： | 201910393124.3 | 申请日： | 2019-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN110033947B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 陈健;冒慧敏 | 申请（专利权）人： | 南通海星电子股份有限公司;南通海一电子有限公司;宁夏海力电子有限公司 |
| 主分类号： | H01G9/045 | 分类号： | H01G9/045;H01G9/048;C22C21/18;C22C21/10 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 226000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种高强度电子光箔，该电子光箔具有三层复合结构，其中容量层为表面(100)晶面占比98.5%以上的超纯偏析铝构成，厚度为40‑60μm，芯层为高强度的Al合金，厚度为15‑30μm，其化学成分以质量％计，含Cu 0.2‑1.2％、Zn 0.1‑0.5％、Mn 0.05‑0.15％、Gd 0.01‑0.05％、Ce 0.01‑0.05％，剩余部分为Al和其它不可避免的微量元素构成，同时还公开了该电子光箔的制造工艺；本发明的优点：相较于常规产品，抗拉强度、弯折强度可提升30%以上。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 强度 电子 及其 制造 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种高强度电子光箔，其特征在于：该电子光箔为中间层为芯层，上下为容量层的三层复合结构，所述容量层为表面(100)晶面占比98.5%以上的超纯偏析铝构成，厚度为40‑60μm，所述芯层为高强度的Al合金，厚度为15‑30μm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通海星电子股份有限公司;南通海一电子有限公司;宁夏海力电子有限公司，未经南通海星电子股份有限公司;南通海一电子有限公司;宁夏海力电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910393124.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
