[发明专利]一种投影光路的校准方法、装置和设备在审

专利信息
申请号: 201910385902.4 申请日: 2019-05-09
公开(公告)号: CN110082992A 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 李东方 申请(专利权)人: 深圳超多维科技有限公司
主分类号: G03B21/14 分类号: G03B21/14;G03B21/28
代理公司: 深圳协成知识产权代理事务所(普通合伙) 44458 代理人: 章小燕
地址: 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种投影光路的校准方法,涉及立体显示技术领域,为能够智能化进行光学校准,有效减少成本而设计。该方法包括:遮挡反射光路;采集透射光路的光束投射在屏幕上的反射光路的投射区域上的第一预定图像;识别第一预定图像上的标准对齐特征点并确定其在第一预定图像上的位置;遮挡透射光路;采集反射光路的光束投射在屏幕上的第二预定图像;识别第二预定图像上的与标准对齐特征点对应的目标对齐特征点并确定其在第二预定图像上的位置;根据标准对齐特征点的位置和目标对齐特征点的位置,调整反射光路,以使目标对齐特征点在第二预定图像上的位置与标准对齐特征点在第一预定图像上的位置对齐。
搜索关键词: 预定图像 对齐 特征点 反射光路 光束投射 投影光路 透射光路 校准 遮挡 采集 屏幕 光学校准 立体显示 投射区域 位置对齐 有效减少 智能化
【主权项】:
1.一种投影光路的校准方法,所述投影光路包括透射光路和反射光路,所述透射光路的光束和所述反射光路的光束用于投射到屏幕上,且所述透射光路的光束在屏幕上的投射区域与所述反射光路的光束在屏幕上的投射区域交叠,其特征在于,所述方法包括:遮挡所述反射光路,以阻止所述反射光路的光束投射到所述屏幕上;采集所述透射光路的光束投射在所述屏幕上的所述反射光路的投射区域上的第一预定图像;识别所述采集的第一预定图像上的标准对齐特征点并确定所述标准对齐特征点在所述第一预定图像上的位置;遮挡所述透射光路,以阻止所述透射光路的光束投射到所述屏幕上;采集所述反射光路的光束投射在所述屏幕上的第二预定图像;识别所述采集的第二预定图像上的与所述标准对齐特征点对应的目标对齐特征点并确定所述目标对齐特征点在所述第二预定图像上的位置;根据所述标准对齐特征点在所述第一预定图像上的位置和所述目标对齐特征点在所述第二预定图像上的位置,调整所述反射光路,以使所述目标对齐特征点在所述第二预定图像上的位置与所述标准对齐特征点在所述第一预定图像上的位置对齐。
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