[发明专利]光刻机的投图系统及消除曝光过程中产生的拖影的方法在审
| 申请号： | 201910373551.5 | 申请日： | 2019-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN109960113A | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 张峰;张雷;李伟成 | 申请（专利权）人： | 苏州源卓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈松 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了光刻机的投图系统，同时还提供采用该光刻机的投图系统消除曝光过程中产生的拖影的方法，在DMD控制板发送投图同步脉冲信号控制DMD微镜阵列翻转的同时，同步将所述投图同步脉冲信号发送给激光器控制器，激光器控制器根据所述投图同步脉冲信号同步控制激光器的激光发射，由此得到的曝光的图形清晰、锐利，曝光的质量好。 | ||
| 搜索关键词： | 同步脉冲信号 光刻机 激光器控制器 曝光过程 拖影 激光发射 同步控制 曝光 激光器 翻转 控制板 锐利 发送 清晰 | ||
【主权项】：
1.光刻机的投图系统，其特征在于，包括主控系统和与所述主控系统电控连接的：基板平台，用于放置PCB板；平台控制器，用于控制所述基板平台的位移；DMD微镜阵列，用于生成曝光图形；DMD控制板，用于发送投图同步脉冲信号给DMD微镜阵列生成曝光图形；激光器，用于发射激光到所述DMD微镜阵列上；激光器控制器，用于控制激光器的开关；光学镜片模块，用于将所述激光器发射的激光投射到所述DMD微镜阵列上。
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